method physical vapor deposition (PVD)

Метод нанесения нанопокрытия, при котором металлы, сплавы или химические соединения осаждаются в глубоком вакууме путем подвода тепловой энергии или бомбардировки частицами. Иными словами, материал покрытия различными способами переводится из твердого состояния в паровую фазу и затем конденсируется на поверхности подложки (физическое распыление с осаждением). К PVD-методам относят еще ионное плакирование и катодное распыление (ионно-плазменное распыление). 

Nanoqoplamani tushirish metodi, bunda metal-lar, qotishmalar yoki kimyoviy birikmalar issiq-lik energiyasini keltirish yoki zarralarni bombar-dimon qilish yo‘li bilan qattiq vakuumda cho‘k-tiriladi. Boshqacha so‘zlar bilan aytganda, qop-lash materiali turli usullar bilan qattiq holatdan bug‘ fazasiga o‘tkaziladi, keyin to‘shama sirtida kondensatsiyalanadi (cho‘ktirish bilan fizik sochilish). PVD-metodlarga shuningdek, ion qoplash (plakirlash) va qayta sochilish (ion-plazmali sochilish) ham kiradi.

Наноқопламани тушириш методи, бунда металлар, қотишмалар ёки кимёвий бирикмалар иссиқлик энергиясини келтириш ёки зарраларни бомбардимон қилиш йўли билан қаттиқ вакуумда чўктирилади. Бошқача сўзлар билан айтганда, қоплаш материали турли усуллар билан қаттиқ ҳолатдан буғ фазасига ўтказилади, кейин тўшама сиртида конденсацияланади (чўктириш билан физик сочилиш). PVD-методларга шунингдек, ион қоплаш (плакирлаш) ва катод сочилиш (ион-плазмали сочилиш) ҳам киради.