Tekis bosma usuli. Integral sxemalar, shuningdek, nanostrukturalar elementlarining topologik suratini qatlam-qatlam tuzish uchun foydalaniladigan foto- va fizik-kimyoviy jara-yonlar yig‘indisi. Yarimo‘tkazgichli texnikada − ayrim elementlarining o‘lchami 100 nm dan kichik bo‘lgan  integral mikrosxemalar ishlab chiqarish jarayoni.

Текис босма усули. Интеграл схемалар, шунингдек, наноструктуралар элементлари-нинг топологик суратини қатлам-қатлам тузиш учун фойдаланиладиган фото- ва физик-кимёвий жараёнлар йиғиндиси. Ярим-ўтказгичли техникада − айрим элементларининг ўлчами 100 nm дан кичик бўлган  интеграл микросхемалар ишлаб чиқариш жараёни.

Метод плоской печати. Совокупность фото- и физико-химических процессов, используемых для послойного формирования топологического рисунка элементов интегральных схем, а также элементов наноструктур. В полупроводниковой технике − процесс производства интегральных микросхем, размер отдельных элементов которых составляет менее 100 nm.

nanolithography