To‘lqin uzunligi 10 nmdan 100 nmgacha bo‘lgan yorug‘lik (elektromagnit nurlanish). Ekstremal ultrafioletdan fotolitografiyada foydalanish nanometr o‘lchamli plastina sirtida strukturalar olish imkonini beradi.

Тўлқин узунлиги 10 nm дан 100 nm гача бўлган ёруғлик (электромагнит нурланиш). Экстремал ультрафиолетдан фотолитографияда фойдаланиш нанометр ўлчамли пластина сиртида структуралар олиш имконини беради.

Свет (электромагнитное излучение) с длиной волны от 10 до 100 nm. Использование экстремального ультрафиолета в фотолитографии позволяет получать структуры на поверхности пластины с нанометровыми размерами.

extreme ultraviolet